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四室磁控濺射鍍膜機HD-SSCK1600-ICP (AR+DLC+AF)實驗平臺

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HD-SSCK1600-ICP實驗平臺特點:,

◆適合做菲林(NCVM)、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識別,AR+DLC+AF、NCVM+DLC+AF一次成膜。

◆成膜方式:磁控濺射ICP后離化鍍膜,鍍率大,成膜致密

◆由CM1進片腔(前處理室)+CM2工藝腔(光學成膜腔)+CM3工藝腔(DLC成膜腔)+CM4(AF成膜室)組成;CM3工藝腔可以模塊化切換成光學鍍膜腔,各腔可靈活切換工藝配置,適合復(fù)雜工藝研發(fā)設(shè)計制作 。

◆載具掛板可異型設(shè)計,制作異型樣品

◆可以完成在玻璃、陶瓷、PC板、菲林基底上制成光學膜、顏色膜、硬質(zhì)膜層、DLC、AF膜,實驗應(yīng)用于手機蓋板、攝像頭,智能家居、智能穿戴,車載顯示等鍍膜工藝的膜系系設(shè)計開發(fā)、設(shè)備軟硬件測試。

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公司自成立以來,一直是真空鍍膜設(shè)備行業(yè)內(nèi)的龍頭企業(yè),是行業(yè)內(nèi)少數(shù)具有鍍膜生產(chǎn)線設(shè)備整體設(shè)計及系統(tǒng)集成能力的企業(yè)之一,被中國通用機械工業(yè)協(xié)會真空設(shè)備分會認定為“真空設(shè)備行業(yè)重點企業(yè)”和“國內(nèi)真空鍍...

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