立式真空回轉磁控濺射鍍膜連續(xù)線（U型）:
◆生產(chǎn)節(jié)拍：≥45s
◆產(chǎn)品：ITO、AR膜,消影，硬膜，金屬膜，超高阻膜，低溫鍍膜
◆可鍍膜尺寸：G3.5-8.5
◆膜層均勻性：根據(jù)不同靶材料均勻性控制不同:1.5%~5%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆設備特點：腔體模塊式設計
立式真空回轉磁控濺射鍍膜連續(xù)線（U型）:
◆生產(chǎn)節(jié)拍：≥45s
◆產(chǎn)品：ITO、AR膜,消影，硬膜，金屬膜，超高阻膜，低溫鍍膜
◆可鍍膜尺寸：G3.5-8.5
◆膜層均勻性：根據(jù)不同靶材料均勻性控制不同:1.5%~5%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆設備特點：腔體模塊式設計
公司自成立以來，一直是真空鍍膜設備行業(yè)內(nèi)的龍頭企業(yè)，是行業(yè)內(nèi)少數(shù)具有鍍膜生產(chǎn)線設備整體設計及系統(tǒng)集成能力的企業(yè)之一，被中國通用機械工業(yè)協(xié)會真空設備分會認定為“真空設備行業(yè)重點企業(yè)”和“國內(nèi)真空鍍...
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