雙室磁控濺射鍍膜機HD-CK1200-ICP是一款高兼容性設(shè)備,適合做菲林(NCVM)、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識等產(chǎn)品;可制備NB2O5、SIO2 、SI3N4、SIH、Cr、In等不同膜層,鍍膜工藝室不破空,穩(wěn)定性重復(fù)性優(yōu)異,采取整鼓平移連續(xù)的方式。
◆工件轉(zhuǎn)動:1~120r/min無極可調(diào)
◆極限真空:<2.0E-4Pa
◆膜層均勻性: ≤1%(T Max.-Tmin.)/( T Max.+Tmin.)
◆有效鍍膜尺寸:
HD-CK1200-ICP有效濺射區(qū)域Φ1200mm*H400mm