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雙室磁控濺射鍍膜機HD-CK1200-ICP

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雙室及多腔室磁控濺射鍍膜設(shè)備:

     雙室磁控濺射鍍膜機HD-CK1200-ICP是一款高兼容性設(shè)備,適合做菲林(NCVM)、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識等產(chǎn)品;可制備NB2O5、SIO2 、SI3N4、SIH、Cr、In等不同膜層,鍍膜工藝室不破空,穩(wěn)定性重復(fù)性優(yōu)異,采取整鼓平移連續(xù)的方式。

工件轉(zhuǎn)動1~120r/min無極可調(diào)
極限真空<2.0E-4Pa
膜層均勻性 1%T Max.-Tmin./( T Max.+Tmin.)
有效鍍膜尺寸
     HD-CK1200-ICP有效濺射區(qū)域Φ1200mm*H400mm

公司自成立以來,一直是真空鍍膜設(shè)備行業(yè)內(nèi)的龍頭企業(yè),是行業(yè)內(nèi)少數(shù)具有鍍膜生產(chǎn)線設(shè)備整體設(shè)計及系統(tǒng)集成能力的企業(yè)之一,被中國通用機械工業(yè)協(xié)會真空設(shè)備分會認(rèn)定為“真空設(shè)備行業(yè)重點企業(yè)”和“國內(nèi)真空鍍...

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