三室磁控濺射鍍膜機(ICP離化型式)：

     三室磁控濺射鍍膜機是一款高兼容性設(shè)備，采用ICP 后離化模式，鍍膜效率高，適合做菲林（NCVM）、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識等產(chǎn)品。可制備NB2O5,SIO2 ,SI3N4,SIH,Cr,In等不同膜層，鍍膜工藝室不破空，穩(wěn)定性重復(fù)性優(yōu)異，采取整鼓平移連續(xù)的方式，省去抽放氣時間，極大提高生產(chǎn)效率。兼容3D異型車載玻璃。

◆工件轉(zhuǎn)動：1~120r/min無極可調(diào)
◆極限真空：<2.0E-4Pa
◆膜層均勻性： ≤1%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆有效鍍膜尺寸：

HD-SCK1600-ICP有效濺濺射高度850mm,

HD-SCK1800-ICP有效濺射高度1250mm.

HD-SCK1800H-ICP有效濺射尺寸1500mm